ASML系统EUV光源(LPP模式)
荷兰ISTEQ公司台式EUV光源（LPP模式）
经过数个月准备，先期在广州实验室自制测试仪器，验证实验信号，完善实验中的激光防护和安全条件，最终在深圳实验室实现13.5nm的X激光在60w和200w泵浦条件下均实现信号输出，令科艺公司在南中国大湾区首次获得eUV激光源的输出。展现了大湾区科技应用的典型特点：低成本，高效率，快速转化的综合科技转化能力。
（早几年哈工大本部采用DPP模式获得X激光输出，上海光机所采用LPP模式获得X激光输出）
科艺桌面型eUV光源(LPP模式)
由于所有实验是非真空环境条件下进行，激光损耗和散射比较大，理论估计本次实验数据如下：
1.输出波长13.5nm
2.辐射总能量：7mW@60W CO2 泵浦（Ti60）
12mW@200W CO2 泵浦 （F201）
3.测试装备：26所特制5*5*5闪烁体+Thorlab光探测器2套（慢速高灵敏+高速低灵敏）
通用辐射计1套
@200W泵浦时信号
@60W泵浦时信号
辐射计信号
基于初步实验过程，充分有效地锻炼了我们团队解决新问题的应变能力，也印证了科艺公司多年在激光应用领域丰厚的技术沉淀和灵活高效的操作手段。
未来，科艺公司也将继续与中山大学及其相关伙伴共同推进此项技术在超分辨成像仪器方面做一些探索与贡献。
伍庆华
2022-7-22于广州
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